硅铝靶材磁控溅射做二氧化硅涂层需要具备哪些条件及参数

来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/05/09 02:45:56
硅铝靶材磁控溅射做二氧化硅涂层需要具备哪些条件及参数

硅铝靶材磁控溅射做二氧化硅涂层需要具备哪些条件及参数
硅铝靶材磁控溅射做二氧化硅涂层需要具备哪些条件及参数

硅铝靶材磁控溅射做二氧化硅涂层需要具备哪些条件及参数
通入氩气,使得真空度达到靶材可以起辉的真空度,然后通入一定量的氧气,不过氧气不能太多,否则靶材会毒化的.

磁控溅射方法典型的工作条件为:溅射气压0.5Pa,靶电压600V,靶电流密度20mA/cm2,薄膜沉积速率2nm/min。